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上微推出新一代先进封装光刻机

发布者：	qkl80	浏览次数：	343
有效期至：	长期有效	发布时间：	2021-09-19 22:17

详细说明

9月18日，上微举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。此次推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点，可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用，满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求。目前，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议，首台将于年内交付。

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